英特尔新视频公开High-NA EUV曝光机俄勒冈芯片厂装机

2023年年底，曝光机大厂ASML开始向英特尔交货其首个高数值孔径High-NA极紫外线 (EUV) 曝光机。上周末，英特尔也发布了一段网络视频，介绍工具于俄勒冈州希尔斯伯勒 (Hillsboro) 附近芯片厂安装状况。英特尔规划，设备主要研究和开发用。

ASML Twinscan EXE:5000 High-NA EUV曝光机体积非常庞大，运送共需要250个栈板，总重量约33万磅。波音747货机将设备从荷兰运至俄勒冈州波特兰，然后一辆卡车负责关键零件。

设备已入机完毕，但需250名ASML和英特尔工程师约六个月完全安装。即使ASML Twinscan EXE:5000 High-NA EUV完全组装，ASML和英特尔工程师仍需校准机器，需耗时长周甚至数月。

ASML High-NA EUV曝光机以8纳米分辨率图形化，增强标准孔径EUV曝光性能，单次曝光分辨率仅限13纳米，使晶体管尺寸小约1.7倍，晶体管密度增加近三倍。8纳米关键尺寸对3纳米以下制程至关重要，半导体界希望2025-2026年完成这目标。

英特尔将使用Twinscan EXE:5000学习如何顺畅运用High-NA EUV，以Intel 18A制程测试高数值孔径曝光机生产，不过不是量产，Intel 14A才会量产。

ASML之前说新High-NA EUV曝光机价格是标准EUV曝光机两倍以上，约3.8亿美元（3.5亿欧元），最后价格取决于实际配置。英特尔首席执行官Pat Gelsinger表示机器成本为4亿美元左右。

标准孔径EUV系统售价约1.83亿美元（1.7亿欧元），特定型号和配置价格也有不同。英特尔是第一家购买High-NA EUV曝光机的厂商，但ASML透露英特尔、三星、SK海力士和台积电等都有下订High-NA EUV曝光机，很快会成主流设备。