ASML第三代标准EUV曝光机问世，每套价格约1.8亿美元
外媒报道，曝光机大厂艾司摩尔 (ASML) 交货第三代标准型极紫外（EUV）曝光机，新设备型号为Twinscan NXE:3800E，0.33数值孔径透镜，较旧型号Twinscan NXE:3600D的标准型曝光机，性能提高，支持几年内3纳米及2纳米芯片制造。
Twinscan NXE:3800E第三代标准型EUV代表标准曝光性能和精度又一次进步，达每小时处理195片芯片速度，较Twinscan NXE:3600D约160片约提升22%，且有可能提高到220片。新设备还能小于1.1纳米的芯片对准精度。
即便生产4/5纳米芯片，Twinscan NXE:3800E第三代标准型EUV也能提升效率，提高芯片生产经济性，更高效且更具成本效益。重要的是Twinscan NXE:3800E精确度提升会让3纳米以下制程受益，让2纳米芯片和需双重曝光的制造技术效果更好。
当然Twinscan NXE:3800E第三代标准型EUV曝光机价格不便宜，每套EUV曝光设备价格约1.8亿美元，但比最新High-NA EUV报价还是低很多。业界首款采用High-NA EUV的TWINSCAN EXE:5200报价达3.8亿美元。
虽然ASML已推出High-NA EUV，但仍会继续发展标准型EUV。新Twinscan NXE:4000F EUV曝光机2026年问世，突显ASML对EUV技术持续推进的承诺。
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