ASML推出次世代曝光机 每部售价3.8亿美元比上代贵一倍
在芯片制造过程之中，曝光机是相当重要的存在，荷兰ASML就是这方面的龙头企业，最近正式公开High-NA EUV微影曝光设备，进一步提升芯片生产技术。
ASML先前终于向外界公开其次世代TWINSCAN EXE:5000曝光机（光刻机），采用新一代的High-NA EUV微影曝光技术，重量达到165吨，造价3.8亿美元，是上代Low-NA EUV曝光机差不多2倍价钱。ASML表示，新一代曝光机可以打印8纳米的图案，比上代密度提升1.7倍，每小时可生产185个芯片。
这样庞大的机器需要由250名工程师在实地组装，而且需要6个月。去年Intel已经购买一部TWINSCAN EXE:5000，不过在2025年之前都不会用于生产。而台积电方面仍然未有计划升级曝光机，可能正在等待更先进的产品推出才一次过投资，也就是Hyper NA技术，预计在2030年左右推出。
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